市場の定義
マイクロ電子デバイスの作成中に、ウェーハ表面から不純物を除去するためにウェーハ洗浄機械が使用されます。エッチング、蒸着、フォトリソグラフィーなどのさまざまな処理プロセスの前に、半導体ウェーハは装置を使用して洗浄されます。
ウェーハ洗浄装置市場の成長要因
以下は、ウェーハ洗浄装置市場の主な成長要因の一部です。
AIベースのサーバーからのメモリデバイスの需要の増大– 人工知能 (AI) は、近年さまざまな用途でますます人気が高まっています。生成 AI 市場の成長を促進する主な要因の 1 つは、生成 AI 市場が着実に拡大していることです。
課題
ウェーハ半導体洗浄装置 世界シェア市場の成長を妨げる主な要因の 1 つは、ウェーハ洗浄時の有害化学物質の放出による環境への懸念です。アンチモン (Sb)、三酸化アンチモン (SbO3)、五フッ化ヒ素 (AsF5)、ヒ素 (As)、三塩化ホウ素 (BCl3)、ホウ素などの一部の有害物質および酸は、ウェーハの製造および洗浄に使用されており、硫化水素 (H2S)、過酸化水素 (H2O2)、三フッ化物 (BF3)、塩素 (Cl)、および酸化炭素です。これらの物質はすべて有害で危険であり、環境や人間の健康に悪影響を及ぼします。
装置タイプに基づいて、ウェーハ洗浄装置市場は、枚葉式スプレー システム、枚葉式極低温システム、バッチ浸漬洗浄システム、バッチ式スプレー洗浄システム、スクラバーに分割されています。このサブセグメントのうち、枚葉式スプレー システム セグメントは市場で重要な地位を占めており、2036 年までに市場総収益に最大 35% の貢献を果たします。
競争力ランドスケープ
世界のウェーハ洗浄装置市場中に主なプレーヤーには、Lam Research Corporation、Applied Materials, Inc.、Akrion Technologies、Modutek Corporation、ULTRON SYSTEMS, INC.、などが含まれます。さらに、日本市場調査レポートのトップ 5 プレーヤーは、SCREEN Holdings Co., Ltd.、 Tokyo Electron Limited、Shibaura Mechatronics Corporation、TDC SOFT Inc.、 Orbray Co., Ltd.、 などです。
原資料: SDKI Inc 公式サイト
